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地 址：興化市戴南鎮科技園區富康路
硅溶膠精密鑄造型殼制造工藝
硅溶膠精密鑄造工藝的應用越來越廣泛，其優越性是已經公認的事實，同時它也存在著需要改善和提高的地方，由于各個工廠所使用的原輔材料機器操作條件都不一樣，所以工藝參數也是千變萬化，怎樣能保證鑄件的成品率是一個永遠的課題。
1、精鑄用粘結劑硅溶膠的技術要求
熔模鑄造用硅溶膠無國家標準，只有航空工業標準 HB5346-1986《熔模鑄造用硅溶膠》技術要求，硅溶膠是一種優質硅溶膠熔模鑄造用水基粘結劑，生產用于所有層(面層S830和背層S1430)。硅溶膠易配制成高粉液比的優質涂料，涂料穩定。
熔模鑄造用硅溶膠技術要求
牌號化學成分/%物理性能其它
SiO2Na20密度/g·cm-3pH值運動粘度/mm2·s-1SiO2膠粒直徑/mm外觀穩定期
S83024～28≤0.31.15～1.199-9.5≤67～15乳白≥1年
S143029～31≤0.51.20～1.229-10≤89～20
2、硅溶膠涂料配比
正確地選擇各種原材料配比，保證涂料有適當的比重和粘度，是涂料控制的關鍵,對于要求高粉液比的工廠加入粉液比調節劑T3可以自由控制。硅溶膠涂料中，除了硅溶膠和耐火粉以外，還有潤濕劑WET-10S、消泡劑FA900和涂料衛士GERM37，涂料衛士的作用是防止涂料變質老化，涂料失去涂掛性能。
硅溶膠涂料液的配方
種類單位面層(1)2～3層4～5層最外層
硅溶膠kg10101010
鋯英粉kg38
0.3
莫來砂粉
kg
30201.2
潤濕劑g20
消泡劑g20
粘度4#杯s30～353010～1515～20
配比原則
控制涂料粘度以達到穩定制殼質量的目的，配制時按當時的實際情況，當零件壁薄、復雜或帶有深陷時，涂料粘度取下限，反之取上限。
配制工藝
按涂料的配方取一定量的耐火材料、潤濕劑、消泡劑，先加入硅溶膠然后加入潤濕劑和消泡劑等，開始攪拌，在不斷攪拌過程中加入耐火材料，待全部加入完后，繼續攪拌6h～12h，穩定后測其粘度，過高加硅溶膠稀釋，過小則加入一定量的耐火粉料補充，直至粘度合格為止，涂料衛士在涂料使用后加入，如果當天使用完畢不需要加入，而粉液比調節劑可以隨時按需要加入。
3、硅溶膠涂料液的制殼工藝
制殼場地工藝參數
涂料間溫度：22℃～25℃;相對濕度45%～65%;通風條件：良好。
涂料工藝過程
將清洗好的蠟模(要求干燥后)慢慢浸入L型涂料攪拌桶中，并轉動上下移動，讓涂料充分并均勻濕潤模組后，取出慢慢轉動至無涂料堆積、滴落現象時再掛砂，使砂粒均勻附于涂料之上，每層涂料的粘度、撒砂粒度要求。面層涂料時要用專用篩網過濾涂料中的砂粒等雜質，以防止模殼中產生砂粒等脫落而造成鑄件夾灰夾砂。
硅溶膠涂料的性能要求
型殼層數/面涂料粘度/s密度/g·cm-3撒砂粒度/目
130-351.81-2.0380/100(鋯英砂)
2301.84-1.8530/60(莫來砂)
3301.83-1.8430/60(莫來砂)
415-201.81-1.8216/30(莫來砂)
515-201.80-1.8116/30(莫來砂)
6(最外層)15-201.79-1.80
4、硅溶膠每層型殼的干燥過程
硅溶膠在干燥過程中必須嚴格控制溫度，相對濕度及空氣流速。
硅溶膠型殼工藝參數
時間/h層數/層干燥溫度/℃相對濕度/%風速/m·s-1
≥41～220～2550～60不宜吹風
≥63～5≥3030～50≥3
≥86≥3030～50≥3
當環境溫度和相對濕度不易調整時，可控制為一定相對穩定額數值：溫度為22℃～25℃;濕度45%～65%。
模殼脫蠟工藝
如果是低溫蠟比如石蠟硬脂酸模料采用水浴脫蠟，水溫90℃～95℃，脫蠟時間≥20分鐘，以防止水沸騰造成砂粒或涂料進入模殼中，如果是中溫蠟一般采用蒸汽脫蠟。
模殼的自檢
模殼的自檢由操作工自己完成，當有分層、走泡、開裂、爛頭者為不合格。
模殼槽清理
每次脫模結束后將蠟水放出澆成蠟錠，澆蠟錠時要用要用160目～200目的篩網過濾去除蠟液中渣滓，并將槽中的水全部放掉并將脫蠟槽打掃干凈，下次脫蠟時重新加入清潔的水。
5、焙燒工藝
單殼焙燒
模口朝下，放置于爐膛內，焙燒溫度900℃～1050℃，到溫后保溫1h～2h后開始取出澆注;當需要裝箱時待小于450℃出爐、裝箱。
裝箱焙燒
認真仔細檢查模殼質量，凡有型腔開裂、剝落、起皮等現象不予裝箱。清除澆口翻邊及浮砂，模殼口朝下，四周均勻拍擺模殼，清除夾灰、夾砂及型腔表面的浮塵。用壓縮空氣吹凈型腔內夾灰及其表面浮塵100%進行清水清洗模殼型腔，去除內部渣滓。再次輕輕拍搖模殼后裝箱，填砂后用石棉板蓋住澆口并用兩半缺口的石棉板蓋住砂箱上口(石棉板大小保證蓋滿整個砂箱上口并伸出擋砂箱爆皮的邊沿),以防止焙燒至澆注過程中砂箱爆皮落入模殼中而造成鑄件夾灰。如有澆口損壞，杯口有砂粒外露者，則停止使用。更多的硅溶膠精密鑄造資訊請關注我們。